Business

Semiconductor equipment maker ASML ships second ‘High NA’ EUV machine

[ad_1]

AMSTERDAM: ASML, de grootste leverancier van apparatuur aan fabrikanten van computerchips, zei woensdag dat het een van zijn nieuwste “High NA” EUV-lithografiesystemen naar een tweede klant heeft verzonden.

ASML, dat in december-januari één High NA-tool naar Intel heeft verzonden, heeft de tweede klant niet geïdentificeerd. Potentiële klanten kunnen onder meer contractchipmaker TSMC zijn, die chips maakt voor Nvidia en Apple, of Samsung.

Deze machines kosten elk ongeveer 350 miljoen euro en zullen naar verwachting nieuwe generaties kleinere, snellere chips mogelijk maken.

De verkoop werd bekendgemaakt samen met ASML's winst over het eerste kwartaal die de verwachtingen overtrof

TSMC en Samsung hebben eerder gezegd dat ze van plan zijn het nieuwe systeem te adopteren, wat naar verwachting zal leiden tot een grote toename van het aantal transistors dat op één chip kan worden verpakt.

Intel heeft gezegd dat het High NA-tools zal gaan gebruiken in de vroege productie in 2026-2027 met zijn chips uit de 14A-serie.

De allereerste High NA-machine werd geassembleerd op het hoofdkantoor van ASML in Veldhoven, Nederland, waar bedrijven die EUV-technologie adopteren er toegang toe krijgen voor testdoeleinden. Het bedrijf zei dat het bestellingen heeft voor tussen de 10 en 20 van de machines.

Lithografiesystemen gebruiken lichtstralen om de chipcircuits te helpen creëren. ASML's eerste generatie EUV-systemen, die momenteel worden gebruikt om de meeste chips in smartphones en AI-chips te maken, gebruiken licht in de 'extreem ultraviolette' golflengte om ontwerpkenmerken te creëren met een resolutie tot 13 nanometer, kleiner dan een virus.

Het bedrijf zei woensdag in een post en foto die woensdag op X werd gepubliceerd dat de High NA-machine met succes kenmerken op 10 nanometer heeft geproduceerd. De theoretische limiet van de machine is 8 nanometer, aldus de website van ASML.

($1 = 0,9394 euro)

[ad_2]

Source link

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *